本发明涉及一种低温剥离修饰
石墨烯及其制备方法，利用碱金属在液氨中形成的氨合离子插入到石墨烯层间以剥离石墨得到片层较薄的石墨烯，氨合电子和修饰基团在石墨烯片层缺陷位点反应得到修饰石墨烯。与现有技术相比，本发明经过形貌分析及结构分析表明，所得的修饰石墨烯片层较薄，结构较完整，在水中和NMP中分散都较好且稳定。同时，本发明所得的修饰石墨烯与金属氧化物、过渡金属二硫化物复合可以得到结构稳定的
复合材料。
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“低温剥离修饰石墨烯及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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