本发明公开了一种基于氮化碳的土霉素残留物清除剂的制备方法，具体为：首先，将MoS
2、g‑C
3N
4和去离子水混合，超声处理；放入高压釜中，进行水热反应，得到MoS
2/g‑C
3N
4复合物；将MoS
2/g‑C
3N
4复合物分散于去离子水和甲醇的混合溶液中，搅拌，之后向溶液中加入氯金酸溶液，使用氙灯对其照射，并用气泵进行鼓气；洗涤，干燥，得到AuNPs/MoS
2/g‑C
3N
4三相
复合材料，即为土霉素残留物清除剂。利用纳米金和MoS
2双重敏化的g‑C
3N
4复合材料，能对抗生素残留物进行清除，制备过程对设备要求低、反应条件温和，合成工艺简单易于实现。
声明：
“基于氮化碳的土霉素残留物清除剂的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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