本发明提供一种低发射率
复合材料及其制备方法，具体地说是一种用氮化钛与金属掺杂的复合材料及制备方法。具体是采用磁控反应溅射法，溅射气体为氩气，反应气体为高纯氮气，设备使用一台双靶磁控溅射镀膜机，首先在基材上磁控反应溅射沉积一层的氮化钛（TiN），再沉积一层
铜（Cu）,再沉积一层的氮化钛（TiN），如是一个周期，重复上述步骤至少在基材上反应溅射两个周期，最终形成基材/TiN/Cu（Al）/TiN/Cu（Al）/TiN。
声明：
“低发射率复合材料及制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1191
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
