本发明公开了一种利用原子层沉积技术修饰
碳纳米管制备耐高压
复合材料及方法，主要步骤为：1)用硫酸与硝酸的混合酸液酸化碳纳米管；2)将酸化后的碳纳米管置于温度为295～305摄氏度的原子层沉积腔内，以三甲基
铝源和去离子水作为ALD沉积薄膜的前驱体源，在酸化后的碳纳米管表面沉积
氧化铝；3)利用超声振荡以及磁力搅拌将沉积后的碳纳米管均匀分散到聚合物基体中，通过匀胶机制样并烘干，得到耐高压复合材料。本发明方法制得的复合材料与文献报道的掺杂导电粒子的聚合物基复合材料以及纯聚合物基体相比，击穿强度有显著提高，为制备具有高介电常数，高击穿场强的聚合物基复合材料提供了新的思路。
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来源：北方有色网
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