本实用新型属于用物理冶金技术提纯
多晶硅的技术领域。一种浅熔池真空熔炼提纯多晶硅的设备,设备由炉盖及真空炉壁构成真空设备,真空设备的内腔即为真空室,真空室底部安装有拉锭机构,拉锭机构上安装熔炼坩埚,熔炼坩埚外安装有加热装置,真空室顶部外壁上安装有升降电动装置,升降电动装置驱动连接升降拉杆上端,升降拉杆下端穿过真空炉壁连接到真空室内的悬挂夹紧装置之上,悬挂夹紧装置位于熔炼坩埚上方。本实用新型设备结构紧凑,构思独特,综合高温、高真空大面积浅熔池熔炼和定向凝固的技术去除多晶硅中的杂质磷和金属。提高了生产效率,去除效果良好,集成了除磷和除金属的双重效果,适合大规模工业化生产。
声明：
“浅熔池真空熔炼提纯多晶硅的设备” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
815
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
