全部
▼
267
工作原理
BMP-2D采用双电机独立驱动结构，左右抛光盘分别由1.1kW电机驱动，通过变频调速技术实现四档转速切换（50/100/150/300rpm）。操作时，用户将试样固定在抛光头上，通过压力调节装置控制试样与抛光盘的接触力，同时向抛光盘表面喷洒冷却液与抛光剂。电机驱动抛光盘高速旋转，配合不同粒度的抛光布与悬浮液，逐步去除试样表面的切割损伤层，最终获得镜面级抛光效果。设备内置排水槽与防溅罩，可有效收集废液并防止抛光剂飞溅，保持工作台面整洁。
应用范围
该设备广泛应用于金属材料、非金属材料及复合材料的金相分析试样制备：金属领域可处理钢铁、铝合金、钛合金等试样的粗抛与精抛；非金属领域支持陶瓷、岩矿、高分子材料的表面平整化处理；科研机构与高校实验室则利用其完成材料性能研究、失效分析等课题的试样制备。其双盘设计支持同时使用不同粒度抛光布，满足从粗磨到精抛的一站式加工需求。
技术参数
抛光盘直径：φ250mm（双盘独立驱动）
转速范围：50/100/150/300rpm（四档可调）
电机功率：1.1kW×2（单盘）
电源：380V 50Hz 三相四线
外形尺寸：1100×750×1100mm
净重：180kg
产品特点
双盘四速高效加工：左右盘独立调速，可同时进行粗抛与精抛，缩短试样制备周期；
精准压力控制：抛光头配备弹簧压力调节装置，确保试样受力均匀，避免局部过抛；
安全防护设计：全封闭式防溅罩与急停按钮，防止抛光剂飞溅伤人，保障操作安全；
耐用稳定结构：铸铁机身与加厚抛光盘降低振动，变频电机运行平稳，适应长时间连续作业。
咨询底价
