离子溅射镀膜仪
离子溅射镀膜仪的核心优势包括磁控溅射和快速沉积能力，能够实现角度全覆盖涂层。样品台直径为70mm，倾斜角度可达+35°，提升距离范围为0-20mm。设备操作方便，配备触摸屏，且腔室可作为样品真空储液槽使用。用户界面简洁，参数设置便利，工作时可显示关键参数，全过程可控。设备采用模块化设计，不同功能间切换快捷，维护简单，无需特殊保养。
核心优势
1.磁控溅射、快速沉积。
2.角度全覆盖涂层
样品台直径:70 mm
倾斜角度:+35°
提升距离:0-20mm
3.方便的触摸屏操作
4.腔室可用作样品真空储液槽
用户界面
用户界面简洁，参数设置便利
工作时显示设备关键参数，全过程可控
模块化设计，不同功能间切换快捷
维护简单，无需特殊保养
性能参数
485 
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