小型分体式磁控溅射仪是一款小型的单靶磁控溅射镀膜仪，配有一个2英寸的磁控等离子溅射头。射频等离子电源和高压直流电源两种电源可选，用于镀膜各种薄膜材料。单靶射频磁控溅射仪体积小巧，功能出色、配置齐全，兼容超净间，性能稳定。可用于制备高质量的金属薄膜、半导体薄膜、介电、绝缘材料薄膜以及复合薄膜、多层异质结等，广泛应用于材料科学、电子工程、光学、航空航天等领域。
技术参数：
小型磁控溅射仪通常采用磁控溅射技术，具有结构紧凑、操作简便、性能稳定等特点。其核心部件包括溅射靶材、磁场系统、真空室、气体供应系统和控制系统等。在溅射过程中，通过调整磁场、气体压力和溅射功率等参数，可以实现对薄膜成分、结构和性能的精确控制。
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