高真空电阻热蒸发系统
高真空电阻热蒸发系统是一种专为冶金和材料科学领域设计的先进设备，它在高真空环境下进行材料的蒸发和沉积，广泛应用于制备薄膜、
纳米材料以及进行材料表面改性等。该系统由高真空获得与测量系统、样品台或工件转架系统、有机（OLED）/金属蒸发源系统及电气控制系统等四部分组成，确保了蒸发过程的精确控制和高效进行。
在冶金行业中，高真空电阻热蒸发系统可以用来制备高性能的金属薄膜，这些薄膜可以用于制造高性能的催化剂、传感器和电子器件。此外，该系统还可以用于修复和保护金属表面，提高材料的耐腐蚀性和耐磨性，从而延长材料的使用寿命。
高真空机组采用复合分子泵和机械泵组成，能够达到极限真空度≤6.7×10^-5Pa，漏率≤10^-7Pa·L/s，为蒸发过程提供了理想的高真空环境。样品台或工件转架系统可以根据工艺需要灵活定制所需功能，多种蒸发源可选，全部模块化设计，标准接口法兰，可选配膜厚控制仪，进行在线测量和监控。
电气控制系统具有多种报警功能，能及时提示故障情况，保障设备安全运行。可选配工艺系统如手套箱工作站、样品预处理室、自动样品库等，进一步增强了设备的灵活性和自动化程度。这些特点使得高真空电阻热蒸发系统成为冶金行业中不可或缺的重要工具，为材料科学的发展和工业应用提供了强有力的技术支持。
一、设备主要功能及组成
1.设备主要由高真空获得与测量系统、样品台或工件转架系统、有机（OLED）/金属蒸发源系统及电气控制系统等四部分组成。
2.高真空机组采用复合分子泵和机械泵组成。
3.样品台或工件转架系统可根据工艺需要灵活定制所需功能。
4.多种蒸发源可选，全部模块化设计，标准接口法兰。
5.可选配膜厚控制仪，进行在线测量和监控。
6.电气控制系统具有多种报警功能，能及时提示故障情况，保障设备安全运行。
二、主要技术参数
1．真空室尺寸：Ø450、Ø540、Ø650、Ø750、Ø1000、Ø1200（定制）
2．极限真空度：≤6.7×10-5Pa
3．漏率：≤10-7Pa·L/s
4．可选蒸发源：钨丝蒸发舟、钽蒸发舟、可控温有机束源炉等
5．样品台：可在线升降、旋转、衬底加热、OLED可做在线多次无间隙掩膜
6．工件转架：三轴联动（公转、自转、单样品自转），增强镀膜均匀性，可加热
7．可选配工艺系统：手套箱工作站、样品预处理室、自动样品库等
8．供电电源：380V50Hz（三相五线制）
9．进水排管径：DN25
10．工作水压：0.2Mpa
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