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工作原理
设备采用直流电源驱动钨电极产生电弧，配合水冷铜坩埚形成稳定熔池。熔炼过程中，真空系统（机械泵+分子泵）将腔体压力降至≤5Pa，有效隔绝氧化；氩气保护系统确保熔炼环境纯净。水冷电极与坩埚设计可避免高温对炉体的热损伤，同时支持多工位熔炼与翻转操作，实现样品的均匀混合。
应用范围
KDH-1000ES广泛应用于高校及科研院所的新材料研发领域：
高熔点金属（如钨、钼、铌）及其合金的熔炼提纯；
非晶合金纽扣锭的制备；
金属间化合物、半导体材料的试样制备；
真空吸铸法制备大块非晶材料。
产品技术参数
额定功率：80kW
熔炼电流：1000A
真空度：≤5Pa（冷态极限）
熔炼坩埚：5个圆片型工位+3个半球形工位
工作气体：高纯氩气
控制方式：PLC+触摸屏
外形尺寸：1250×600×1700mm
产品特点
高效节能：1分钟内完成金属重熔，较传统设备效率提升40%；
精密控制：支持30组工艺曲线存储，温度波动≤±2℃；
模块化设计：坩埚、电极可快速更换，兼容粉末、丝状、屑状等多种形态样品；
安全可靠：配备超温报警、断水保护及防爆装置，符合CE安全标准。
KDH-1000ES以高性价比与灵活适配性，成为真空冶金领域科研与小批量生产的核心设备。
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