CVD-1200系统
关 键 词:高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验、材料制备、纳米线生长、材料烧结
CVD-1200系统由开启式单(双)温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
型号:CVD-1200
品牌:上海钜晶
发货周期:1-5个工作日
接受订制:可按要求定制
CVD-1200系统由开启式单(双)温区管式炉、高直空分子众系统、乐强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现直空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
主要功能和特点:
1、高真空系统由双级旋片
真空泵和分子泵组成，最高真空可达0.0001Pa
2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制;
3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制;每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性。
4、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷;管路采用世界顶级Swagelok卡套连接，不漏气;5、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用安全可靠。
主要用途:
高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CV实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、
电池材料干燥烧结等场所。
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