356
0
强对流光亮罩式退火炉主要适用于黄铜带,青铜带,异型铜带,紫铜带,各类精密铜管,造币材料,精密带钢,复合材料,软磁和硬磁合金,铜合金线材,标准件材料,不锈钢带等几十种材料的热处理加工之用。
273
0
台车式真空光亮退火炉的结构,采用纤维结构,复合式高铝瓷钉组,台车防撞击密封砖,自动密封台车和炉门,一体化连轨,不需基础安装,放在水平地面即可使用。主要用于铜管、铜机件等在真空中热处理之用。
315
0
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是一种利用辉光放电(等离子体)反应生成含有气态物质的薄膜的薄膜生长技术。该系统由高功率射频电源、真空系统、管式炉组成,配备喷淋塔、活性炭箱,满足尾气处理的需要。该设备是为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解、离解和离化,从而大大提高了反应物的活性
320
0
这款CVD管式炉广泛用于样品在真空和气氛条件下的烧结、涂层、纳米管研究、钎焊、退火等实验,适用于高校、研究机构实验室和工矿企业进行CVD工艺的科研和实验。
326
0
主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护气氛烧结、CVD实验、真空沉积、材料成分测定场合。
304
0
这款CVD炉可用于碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
628
0
适用于粉体材料的表面薄膜沉积,在超大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用。
中冶有色为您提供最新的有色金属材料制备及加工设备优质商品信息,包括品牌,厂家,图片、规格型号、用途、原理、技术参数、性能指标等。
2026年01月23日 ~ 24日
2026年01月23日 ~ 25日
2026年01月23日 ~ 25日
2026年01月21日 ~ 23日
2026年01月21日 ~ 23日