上海上海有色金属设备

精密切割机 493     

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LC-150精密切割机是一款高性能的切割设备，具备0.01mm的切割精度和标配的150x12.7x0.43mm金刚石切割片，适用于玻璃、线路板、岩石等坚硬材料的精密切割。设备配备内置切削液自动循环冷却系统，LED数字显示屏，无刷直流电机（750W，0-1500r/min），紧急制动装置和透明防护罩，确保操作安全和切割精度。它还提供7套不同样品夹具，选配大尺寸切割装置，支持无人看守加工，外形尺寸为455x610x380mm，重量33kg，使用AC220V 50Hz电源。

精密玻璃切割机(桌面型） 595     

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ULTILE是精密玻璃切割机的新发展，这系列产品设计使用户可以利用硬质合金或金刚石切割轮，快速轻松地将大块材料均匀切割为小块。从技术上讲，它们不是“切割机”，而是在材质中创建一个分数线，允许用户沿分数线创建一个个断点，ULTILE切割机具有可调压力刻度盘，每台UTILE精密玻璃切割机均预装一个激光硬质合金砂轮.

硬度计 369     

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Duramin-100系列包括微观和通用测试仪。顶级型号涵盖从10gf到250kgf的广泛载荷范围，包括电动XY载物台、电动测试压头、全景相机、激光制导和8位转台。Duramin-100有3种载荷范围，适合维氏、布氏和洛氏硬度测试。附加模块包括Kc断裂测量，映射和焊接测量。

专业偏光显微镜 493     

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DM750P专业偏光显微镜是一款适用于岩片、玻璃、陶瓷、塑料、高分子材料等样品偏光特性常规观察和分析的设备。它支持透射和透反射观察配置，具备20mm视域的整体光路和LED光源照明。该显微镜配备360度旋转的专业偏光载物台，多种偏光专用检偏器和丰富的偏光零部件，可进行正交偏光和锥光偏光观察。4孔物镜转盘支持每个物镜的单对中，提供偏光专用目镜观察筒和目镜。此外，可配接荧光部件实现荧光观察分析，目镜筒具备360°旋转功能，便于多人共览。设备还可配接徕卡的ICC50图像采集模块或外置数码相机，实现高品质图像的采集和存储。

半自动智能数字式偏光显微镜 518     

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DM 4500P半自动智能数字式偏光显微镜是一款研究级设备，专为观察分析岩石薄片、玻璃、陶瓷、塑料、高分子材料等样品的偏光特性而设计。它具备集成式设计，固化透反射光轴，可调焦锥光勃式镜，1.6倍自动变倍系统和复消色差光路，支持25mm视野直径。配备6孔位手动物镜转盘和25mm直径偏光专用物镜，反射光可实现明场、偏光、干涉观察，透射光可实现明场、暗场、偏光、干涉、锥光观察。机身内置12V100W透反射照明电源，提供高级照明方式，并能自动记忆不同物镜和观察方式下的光强、光阑大小及聚光镜组合，实现快速恢复。

立体显微镜 499     

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LeicaM125、M165C、M205C和M205A是研究级立体显微镜，具备高变倍比和复消色差设计，提供卓越的图像质量和分辨率。M125变倍比为12.5:1，放大倍数8-100倍；M165C为16.5:1，7.3-120倍；M205C和M205A均为20.5:1，7.8-160倍。这些显微镜支持连续或分级变倍，具有良好的齐焦性，内置可调双光阑以优化景深和对比度。它们配备ESD防静电机身，放电时间小于2秒，可配电动调焦支架和多种照明方式。此外，可连接数码相机和摄像头，选配研究级透射观察载物台，以及多种倍数的物镜和目镜，以满足不同的观察需求。

立体显微镜 489     

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Leica Z6 APO立体显微镜是一款高性能的6:1变焦系统，专为高精密度检验和机器视觉系统一体化设计。它具备优异的对比度、色彩逼真度和完全复消色差的变焦系统及物镜，提供从0.57X到3.6X的变焦范围和7.1X到45X的光学放大率。其分辨能力从336LP/MM到702LP/MM，数值孔径从0.117到0.234，活动距离可达97mm或39mm。该显微镜适用于各种试验机的多样聚焦，提供逼真的色彩偏振用于光学检测，以及无畸变的同轴照明。它还具备电动聚焦（可选）、精细聚焦、可转换焦距位置、内装膜片和可变视角的复消色差ERGO管。

电镜原位原子力显微镜 480     

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EM-AFM可在SEM中同时提供原子力显微镜成像和纳米机械测量。它综合了这两种技术的优点，可高速获得高分辨率的三维图像，并且在微纳米和亚纳米尺度上实时观察纳米级力的相互作用，与常规SEM/FIB兼容，并与EDS, EBSD, WSD兼容。

全自动缺陷检测原子力显微镜 472     

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对于工程师来说，识别介质/平面基底的纳米级缺陷的任务是一个非常耗时的过程，ParkNX-HDM原子力显微镜系统可以自动缺陷识别，通过与各种光学仪器的联用可以提高缺陷检测效率，越来越多的行业需要超平的介质和基板来满足不断缩小的设备需求，ParkNX-HDM原子力显微镜系统具有业界低0.5埃噪音，并将与其真正的非接触式模式相结合实现亚埃级表面粗糙度的测试。

全自动晶圆检测原子力显微镜 579     

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高精度探针针尖变量的亚埃米级表面粗糙度测量，晶圆的表面粗糙度对于确定半导体器件的性能是至关重要的，对于先进的元件制造商，芯片制造商和晶圆供应商都要求对晶圆商超平坦表面进行更精确的粗糙度控制，通过提供低于0.5埃的业界低噪音，并将与其真正的非接触式是模式相结合，ParkNX-Wafer能够可靠地获得具有小针尖变量的亚埃米级粗糙度测量，Park的串扰消除还允许非常平坦的正交XY扫描，不会有背景曲率，及时在平坦的表面上，也不需要过多考虑扫描位置，速率和大小。

高真空原子力显微镜 248     

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ParkNX-Hivac通过为失效分析工程师提供高真空环境来提高测量敏感度以及原子力显微镜测量的可重复性。与一般环境或干燥N2条件相比，高真空测量具有准确度好、可重复性好及针尖和样本损伤低等优点，因此用户可测量各种故障分析应用中许多信号响应，例如扫描扩散电阻显微术(SSRM)的掺杂物浓度。ParkNX-Hivac使得真空环境中高精确度和高分辨率测量的材料科学研究远离氧气与其它药剂的影响，在高真空条件下执行扫描扩散电阻显微镜测量可减少所需的针尖-样本相互作用力，从而降低对样本和针尖的损伤。

全自动在线检测原子力显微镜 457     

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ParkSystems的PTR系列是针对全自动工业级线上的原子力显微镜解决方案，适用于（不限于）长形条、磁头万向节组件(HGA)级滑块以及单滑块的沉降自动测量。凭借着亚纳米级精确度、高重复精度以及高通量，PTR系列是滑块厂商提高整体产量的理想测量工具，硬盘驱动滑块制造业要求工具不仅可以快速且流畅地测量较为尖沉降，同时还要保证高标准的精确度。这便是ParkNX-PTR大展身手的领域。在超精确的较为尖沉降测量之外，自动化功能可较为大程度提高效率。

全自动晶圆探针式轮廓仪/台阶仪 491     

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P-170是cassette-to-cassette探针式轮廓仪，将行业领先的P-17台式系统的测量性能和经过生产验证的HRP®-260的机械传送臂相结合。这样的组合为机械传送臂系统提供了低成本，适用于半导体，化合物半导体和相关行业。P-170可以对台阶高度、粗糙度、翘曲度和应力进行2D和3D测量，其扫描可达200mm而无需图像拼接。

自动晶圆探针式轮廓仪/台阶仪 529     

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P-17可以提供纳米级到1000μm的2D和3D台阶高度的测量。这使其能够量化在蚀刻，溅射，SIMS，沉积，旋涂，CMP和其他工艺期间沉积或去除的材料。P-17具有恒力控制功能，无论台阶高度如何都可以动态调整并施加相同的微力。这保证了良好的测量稳定性并且能够精确测量诸如光刻胶等软性材料。

自动多模式光学轮廓仪 466     

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Zeta-388光学轮廓仪是自动化非接触式3D表面形貌测量系统，具有集成的隔震系统和灵活的配置，并配备了cassette-to-cassette的搬送系统，特别适合于自动化生产。该系统采用ZDot™技术和Multi-Mode(多模式)光学系统，可以对各种不同的样品进行测量：透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的纹理，以及纳米至毫米级别的台阶高度。

多模式光学轮廓仪 368     

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Zeta-300光学轮廓仪是非接触式3D表面形貌测量系统，具有集成的隔震系统和灵活的配置。该系统采用ZDot™技术和Multi-Mode(多模式)光学系统，可以对各种不同的样品进行测量：透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的纹理，以及纳米至毫米级别的台阶高度。

白光干涉仪 459     

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MicroXAM-800是用于3D表面形貌和粗糙度测量的非接触式的光学轮廓仪。MicroXAM-800是一款基于白光干涉仪的光学轮廓仪，采用相位扫描干涉技术（PSI）对纳米级特征进行测量，以及采用垂直扫描干涉技术（VSI）对亚微米至毫米级特征进行测量。MicroXAM进一步扩展了这些技术，它采用SMARTAcquire为新手用户简化了程序设置，并且采用z-stitching干涉技术可以对大台阶高度进行高速测量。MicroXAM-800的程序设置简单灵活，可以进行单次扫描或多点自动测量。

单点膜厚测试仪 469     

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KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。F3-sX可测试众多半导体及电介质层的厚度，可测大厚度达3毫米。F3-sX系列配置10微米的测试光斑直径，因而可以快速容易的测量其他膜厚测试仪器不能测量的材料膜层。

失效分析探针台 504     

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FA8失效分析探针台是专为失效分析实验室设计的一款量测设备，具光学特性、激光特性，设备结构稳定，系统性能优异，人体工程学设计，操作便捷，支持多功能升级，产品功能丰富齐全。

原位AFM in SEM 502     

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LiteScope™扫描探针显微镜（SPM），便于集成到各种扫描电子显微镜（SEM）中。互补SPM和SEM技术的结合（CPEM）可以进行复杂的样品分析，包括表面形貌、机械性能、电性能、化学成分、磁性等的表征。 还能与其他扫描电镜附件相结合，如聚焦离子束（FIB）或气体注入系统(GIS ）用于纳米/微结构的制备和表面改性可以对装配结构的快速和简单的3D检查。 同时，SPM和SEM测量能够在同一地点、同一时间、同一协调系统进行。

高精度纳米拉伸系统 375     

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高精度纳米拉伸压缩系统——KLA的NanoUTMT150纳米力学测试系统适用于对多种材料的微纳米力学特性进行表征。具备静态、动态拉伸等多种功能，连续动态分析模块提供一种操作简单且性能可靠的试验方法。在连续拉伸和压缩过程中的不同应变状态下，对材料的动态力学特性进行测试分析，可快速获得材料的储存模量、损耗模量、损耗因子等。采用设计特的纳米力学激励传感器，系统将简谐力叠加在静态力上，通过传感器内置的电容检测器，对振幅进行实时监控。

微泡排气除污装置 532     

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CAROLO生产的微气泡空气杂质分离器(也叫微泡排气除污装置、螺旋空气杂质分离器)，是用来净化水系统中的气泡和杂质的设备。由于这个整合的举动，所有的气泡和最微小的杂质将会被彻底脱除，保持系统不受气泡和杂质得困扰。它与传统的过滤器和除污器工作方式不同，维护很少。这个装置是否能够在供热系统里发挥它的作用取决于不同方面。

微力位移测试操纵系统 375     

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FT-MTA02是一款集微纳力学测试、微纳机械性能测试、微纳三维操纵及组装于一身的微机器人系统。高分辨力传感探针配合精度很高的三维移动台，能直接且同时准确测得5nN~100mN范围内的微力及1nm~26mm范围内的微位移。带有力传感的微钳能对于0～100um的物体进行拾取、移动、拉伸等操纵或组装。得益于模块化的设计，FT-MTA02能和许多仪器进行联用，例如：探针台、各类光学显微镜、工业产线集成等。非常适合于MEMS、材料、生物等领域的微纳力学测试及操纵等研究。

开式旁流水处理器 525     

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CAROLO循环水旁流处理器在原来全流式处理器的基础上开发出来的，用于替代传统“加药+旁滤” 的新型循环水水质处理设备。该设备具有防垢、杀菌、灭藻处理和过滤排污的综合功效，只需旁流处理系统水流量的1-5%，安装简单，无需化学药剂，无二次污染，绿色环保，且设备智能化全自动运行。

物化全程综合水处理器 546     

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CAROLO物化全程综合水处理器是用于循环水处理的实用新型产品，它通过对水系统的综合处理，彻底解决以往化学加药处理产生的悬浮物遗留问题和物理处理方法效果不明显问题，可有效防止水系统经常出现的结垢、腐蚀、生物粘泥、悬浮物堵塞问题，是现今非常高效的循环水处理设备。

强磁水处理器 507     

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CAROLO强磁水处理器采用的是“磁王”之称的钕铁硼永磁。磁体是钕铁硼磁性材料的一袭种，作为稀土永磁材料发展的最新结果，由于其优异的磁性能而被称为“磁王”。这是国家863高科技计划所研发的产物。钕铁硼永磁体具有极高的磁能积和矫力，同时高能量密度的优点使钕铁硼永磁材料在现代工业，环保，电子技术以及医疗行业中获得了广泛应用

胶球在线清洗装置 552     

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冷凝器胶球清洗装置是一种在制冷机组运行时，使湿态直径略大于凝汽器换热管内径的弹性胶球在凝汽器换热管内通过,通过对弹性橡胶球体的喷注和回收，实时周期清洗换热管道。在此过程中胶球擦洗换热管内壁，通过物理的办法自动在线清洗冷凝器换热管内壁，从而起到了清洗水管内壁沉积的污物和水垢，避免微生物的生长，防止腐蚀的作用，确保了换热管内壁清洁，保证了良好的换热效果，提高了机组的热效率。

物理法水处理设备 525     

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CAROLO全程综合水处理器主要应用于中央空调循环水、工业冷却循环水系统，这些系统中普遍存在有结垢、腐蚀、污泥、微生物繁殖等问题,参考国际和国内类似设备基础上而自主研发的升级换代设备。该设备集防锈除锈、防垢除垢、杀菌灭藻、超净过滤功能为一体，能够有效的解决管路、换热设备腐蚀、结垢、菌藻繁殖、污泥滋生等问题，广泛应用于空调制冷系统、工业冷却水系统、热交换系统、生活水系统等用水系统。

高温原位纳米压痕仪 358     

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InSEMHT（高温）通过在真空环境中单加热尖端和样品来测量高温下的硬度、模量和硬度。INSEM®HT与扫描电子显微镜（SEM）和聚焦离子束（FIB）或立真空室兼容。附带的InView软件可以协助开发新的实验。科学出版物表明，InSEMHT结果与传统大型高温试验数据吻合。广泛的温度范围使InSEMHT成为开发研究材料的一个非常有价值的工具。

脉冲激光沉积系统 535     

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脉冲激光沉积（PLD）是用于薄膜沉积的通用工艺，其主要优点是将材料按化学计量从靶转移到基板。SURFACEPLD-Workstation是薄膜的优秀原型设计和研究系统，可轻松获取新材料，特别是复杂氧化层。