F3单点膜厚测试仪
KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。F3-sX可测试众多半导体及电介质层的厚度，可测大厚度达3毫米。F3-sX系列配置10微米的测试光斑直径，因而可以快速容易的测量其他膜厚测试仪器不能测量的材料膜层。
测量原理-光谱反射
光谱椭圆偏振仪(SE)和光谱反射仪(SR)都是利用分析反射光确定电介质，半导体，和金属薄膜的厚度和折射率。两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光,而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。光谱反射仪测量的是垂直光，它忽略偏振效应（绝大多数薄膜都是旋转对称）。因为不涉及多种移动设备，光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的首选，而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间，两种技术都可用。
一、主要功能
主要应用
测量较厚薄膜厚度、折射率、反射率和穿透率：
技术能力
光谱波长范围：380-1580nm
厚度测量范围：10nm-3mm
测量n&k小厚度：50nm
准确度：取较大值，50nm或0.2%
精度：5nm
稳定性:5nm
光斑大小：10µm
样品尺寸：直径从1mm到300mm或更大
二、应用
半导体薄膜：光刻胶、工艺薄膜、介电材料
液晶显示：OLED、玻璃厚度、ITO
光学镀膜：硬涂层厚度、减反涂层
高分子薄膜：PI、PC
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