本发明公开了一种离子注入机稳定性的监控方法，包括以下步骤：S1、先取光硅片，并生长氧化层；S2、对生长氧化层的光硅片进行离子注入，且将离子注入的浓度峰值注入在硅和氧化层的交界面；S3、进行快速热处理，激活杂质，形成导电层；S4、去除氧化层；S5、对去除氧化层的导电层进行电阻值的测试，确认电阻稳定性；S6、对导电层进行多次定频监控；本发明改变现有的注入机台监控方式，对注入机能量和剂量的稳定性监控都能起到很好的作用，大大降低因机台的波动而造成批量产品的失效报废的机率，具有良好的市场应用价值。
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来源：北方有色网
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