本发明旨在帮助避免在热处理时的晶片损失。晶片具有每批高达150000欧元的价值。因此，应不再出现用于处理晶片的热学装置的意外失效。监控用于对晶片组或晶片批次进行容纳和退火的(多个)热学装置100的所提出的方法在热学装置的多个加热区1′、2′、3′、4′、5′中的至少一个加热区1′中使用对电阻值R
1持续施加的测量。将在所属的加热区1′中的电阻1的各当前测量的值R
1(i)与同一电阻1的之前测量的值R
1(i‑1)进行比较。在出自相同的加热区1′的两个电阻值通过比较检测出偏差ΔR
i的情况下就已生成用于热学装置100的警告或警报90，所述警告或警报在时间上处于在热学装置100中的整个加热区1失效之前。另一目的是资源的更好的可规划性。
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“多区立式炉的实时监视与及早识别热区元件的失效” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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