本实用新型涉及光刻机技术领域，公开了电力半导体生产用浸没式光刻机，包括操作台，所述操作台的上端左侧固定安装有机架，所述机架上固定安装与检测头，所述机架的下侧设有移动台，所述操作台的上端右侧固定安装有清洗箱。本实用新型将
芯片置于镂空清洗篮内，然后启动超声波发生器对芯片进行清理，然后启动伺服电机带动镂空清洗篮上升，然后启动暖风机，从而对芯片进行干燥，由于超声波对芯片表面无损伤，对深孔、细缝和芯片隐蔽处亦可清洗干净，清理效果好，提高芯片的合格率，较为实用，适合广泛推广和使用。
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来源：北方有色网
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