本发明属于量子精密测量技术领域，公开了一种基于量子Zeno效应下光学材料折射率的测量装置，包括：基膜高斯光束、高阶拉盖尔高斯光束、不等臂MZ干涉仪、以及高分辨率CCD成像系统；基膜高斯光束和高阶拉盖尔高斯光束具有锁定的频率差；其中不等臂MZ干涉仪包括经第一分束镜、上臂结构和下臂结构和第二分束镜，基膜高斯光束和高阶拉盖尔高斯光束从第一分束镜的同侧入射后，分别经上臂结构和下臂结构后从两侧分别入射至第二分束镜，高分辨CCD成像系统设置在下臂结构的同侧。本发明结构简单紧凑、可在无损耗条件下实现精确测量。
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“基于量子Zeno效应下光学材料折射率的无损耗测量装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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