本实用新型涉及等离子化学气相沉积技术领域，公开了压力控制系统及应用了该压力控制系统的等离子体沉积设备。其中，压力控制系统包括：与真空腔体通过真空管道连接的
真空泵，真空管道上设置有电控制阀门；用于测量真空腔体的真空度的真空计，真空计和电控制阀门通过可编程序控制器通信连接。本实用新型所提供的压力控制系统能够自发调节真空腔体内的压力，使得气压保持在一定范围内。
声明：
“压力控制系统和等离子体沉积设备” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1025
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
