本发明提供了一种用于在超导薄膜上使用选择蚀刻技术形成超导器件(232)的方法。该方法利用将离子注入与化学蚀刻结合的快速蚀刻。超导薄膜要保留的部分在离子注入处理(217)中被掩盖(215)。然后化学蚀刻处理以比没有注入的部分(223)快得多的速度去掉超导薄膜经注入的部分(225,227),从而只保留了未注入的部分(223)。得到的超导器件可以用作超微型结构和微型的尖头、辐射热测量计、多层RF线圈、微波波导和滤波器。
声明：
“使用选择蚀刻技术形成超导器件的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1204
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
