本发明具有等离子体共振散射响应的纳米孔
芯片的制备方法，其步骤包括：⑴芯片基材的选择，选择硅片为基材，在硅片正面沉积绝缘材料，反面没有绝缘材料；⑵利用湿法刻蚀法在硅片反面刻蚀正方形区域，直到纳米孔芯片薄膜在这一面裸露；⑶纳米孔刻蚀，利用聚焦离子束或聚焦电子束轰击纳米孔芯片薄膜，在纳米孔芯片薄膜上形成纳米小孔；⑷
贵金属修饰，利用磁控溅射仪使纳米孔芯片薄膜表面镀上一层贵金属层。本发明的制备方法步骤简单，尺寸可控，成本较低；通过在纳米孔上的贵金属修饰，制备了一种同时具有光电响应纳米孔芯片，该纳米孔芯片能发生等离子体共振耦合现象，从而对光谱信号产生放大作用，可用于纳米孔
电化学检测的较多领域。
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“具有等离子体共振散射响应的纳米孔芯片的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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