本发明公开了一种氮、硼共掺杂
石墨烯复合薄膜及其制备方法，属于透明导电薄膜材料领域。提供的氮、硼共掺杂石墨烯复合薄膜的制备方法包括在CVD法制备石墨烯薄膜时第一次掺杂适量氮硼和在将氮、硼共掺杂石墨烯引入目标基体时的第二次掺杂过程，两次掺杂工艺简单，掺杂剂掺杂稳定，使得制备得到的氮、硼共掺杂石墨烯复合薄膜不仅具有较小的厚度，还具有较低的方阻，可以直接应用于高性能
复合材料、柔性显示与柔性电子器件、
电化学储能、光电检测与传感器等领域。
声明：
“氮、硼共掺杂石墨烯复合薄膜及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
894
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
