光谱研究金属及合金之缓蚀剂的作用及其择优化表面技术。本发明属于光谱学与金属腐蚀与防护技术相结合的技术领域。固定光谱电解池（如图）由以半圆形硅柱2作载体，表面化学镀金，电沉积被研究对象的金属为电极1(
铜线8相接)，对电极纯铂电极3，及参比饱和甘汞电极4，进出N2气口5，6构成，并置全反射的光路中，以溶液进出口7,将缓蚀剂于池中换液，并静置数小时，使电极表面自组装上缓蚀剂分子。用原位表面增强红外光谱，对上样品进行电位调制分析。与以往技术相比，其通过在红外窗口半圆形硅柱上，镀金属纳米薄膜为电极，又利用原位表面增强红外技术，研究不同缓蚀剂分子在金属表面随电位变化的吸附构型，了解缓蚀剂作用过程，使此技术在金属或合金防蚀与保护上有更有效的广泛应用。
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来源：北方有色网
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