本发明属化学分析技术领域，涉及氮杂‑氟硼二吡咯甲川在制备测定临界胶束浓度的荧光指示剂中的应用，尤其是式(Ⅰ)或(II)结构的氮杂‑氟硼二吡咯甲川化合物在制备测定两亲性表面活性物质临界胶束浓度中的应用。所述的氮杂‑氟硼二吡咯甲川化合物具有在表面活性物质CMC以下无荧光的特征，以及吸收和荧光发射波长长，量子产率高，化学和光学性质稳定，并且在CMC下受散射和背景荧光干扰小，因此荧光突变更显著，测定终点更容易判断，准确度更高。本发明适用于正、负离子表面活性剂、非离子表面活性剂、两亲性嵌段聚合物CMC的测定，适用的CMC范围从毫摩尔浓度(mM)至纳摩尔浓度(nM)，尤其适用于具有极低CMC值的两亲性嵌段聚合物的测定。
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“氮杂-氟硼二吡咯甲川在制备测定胶束浓度的荧光指示剂中的应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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