本实用新型涉及一种等离子体增强型化学气相淀积设备薄膜均匀性改善装置。根据量测仪器获得的圆片介质厚度分布图，结合八寸设备生长六寸、八寸圆片的实际情况，通过在八寸分气盘内侧凹槽内增加挡气圆环，腔体上盖出气口零件中心开孔的方式，尽量使气体收敛于六寸圆片区域，减小圆片边缘的气体流量，从而使长膜厚度均匀性改善。本实用新型避免了因长膜均匀性不合格导致的圆片报废风险，该方法可为改善等离子体增强型化学气相淀积设备薄膜均匀性提供一种解决方案。
声明：
“等离子体增强型化学气相淀积设备薄膜均匀性改善装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1206
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
