本发明公开了用于化学气相沉积过程的装置和方法。一种用于化学气相沉积过程的装置，包括：传感器，被配置成在所述化学气相沉积过程中感测工艺参数；数据库，被配置成存储与所述化学气相沉积过程相关的工艺参数以及对应的薄膜特性；以及处理装置，被配置成根据薄膜特性的目标值以及数据库中与感测的工艺参数对应的薄膜特性，确定所述化学气相沉积过程中的所述工艺参数的调整值。
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来源：北方有色网
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