本发明公开了一种识别激光辐射后单层TMDs中物理和化学吸附方法；将单层TMDs在常压和真空环境下分别进行光致发光强度测量得PL
A0和PL
B0；再对其进行激光辐照后在真空环境下测试获取PL
B1；随后，利用环境空气回填至常压后测试获取PL
A1；分别将PL
A0和PL
A1，PL
B0和PL
B1进行归一化，分别做差获得常压/真空时的ΔPL
1和ΔPL
2；在光致发光过程中，物理吸附比例＝(ΔPL
1‑ΔPL
2)/ΔPL
1，化学吸附比例＝1‑物理吸附比例。本发明识别了化学吸附和物理吸附分别对荧光强度做出贡献的组份并且通过计算判断了二者在激光辐照增强单层TMDs光致发光过程中谁做出了更主要的贡献，该研究还揭示了化学和物理吸附在增强单层TMDs光致发光强度中的协同效应。
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“识别激光辐射后单层TMDs中物理和化学吸附方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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