一种用于处理基板的装置包括：壳体，具有处理基板的处理空间；支撑单元，在处理空间中支撑基板；喷嘴，将化学物质分配到基板上；化学物质供应单元，将化学物质供应到喷嘴；以及控制器，控制化学物质供应单元。化学物质供应单元包括：罐，具有储存化学物质的内部空间；传感器，检测储存在罐中的化学物质的剩余量；入口管线，将化学物质从化学物质供应源供应到罐；出口管线，将化学物质从罐供应到喷嘴；以及排放管线，排出罐中的化学物质。在化学物质保留在罐中的状态下，当由传感器检测到的剩余量达到第一预设量或更少时，控制器控制化学物质供应单元将新的化学物质从化学物质供应源供应到罐。
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来源：北方有色网
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