本发明公开了一种用于
铜箔微观分析的蚀刻液及其配制方法与蚀刻方法，所述蚀刻液的配制方法为：配制饱和氯化铜铵溶液和饱和
氯化铁溶液，将饱和氯化铜铵溶液、饱和氯化铁溶液和HCl倒入容量瓶中混合，再加入去离子水定容得到蚀刻液。本发明通过三种简单的化学试剂调配出的用于铜箔微观分析的蚀刻液蚀刻铜箔表面后，铜的晶体轮廓能明显显现出来，在金相显微镜下能直观的观察铜箔表面的晶格，在SEM下能分析晶粒大小、晶格取向、晶界等等，为铜箔材料的微观分析奠定了基础。
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“用于铜箔微观分析的蚀刻液及其配制方法与蚀刻方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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