本发明公开了一种终点检测精度高的化学机械抛光垫、制备方法及其应用，所述化学机械抛光垫具有独特的类“三明治”结构的检测窗，包括顶层、中间层和底层，所述中间层由高折射率材料构成，保证了抛光过程中具有较高的终点检测精度，所述顶层与底层结构保证了抛光过程中的窗口块体与其他部分的抛光层具有相似的抛光性能及压缩性能。本发明的化学机械抛光垫具有终点检测精度高、抛光缺陷少等优点，适用于磁性基片、光学基片或半导体基片的化学机械抛光。
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来源：北方有色网
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