本发明公开了一种硅片清洗剂及其使用方法,包括氧化剂、有机碱、渗透剂和水,各组分的体积比是氧化剂∶有机碱∶渗透剂∶水=0.02～0.1∶1～4∶0.5～1∶30～50;所述的氧化剂的标准电极电位不小于1.7V,是臭氧或双氧水;所述的有机碱选自以下组分中的一种或多种:三乙醇胺、醇钠、烃基钠、烃基
锂、氨基锂及季铵碱;所述的渗透剂是脂肪醇聚氧乙烯醚或顺丁烯二酸二仲辛酯磺酸钠。本发明使用的清洗剂操作简单,没有给硅片清洗增加繁琐步骤,成本低,无污染,不会带入污染硅片的杂质,对环境无害。
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来源：北方有色网
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