本发明公开了一种覆盖
铝硅层固态电解质及其制备方法和应用，使用铝硅合金为靶材，通过磁控溅射的方法在LLZTO固态电解质片表面溅射适当厚度的铝硅缓冲层，当把熔融的金属
锂浇筑到带有铝硅缓冲层的LLZTO表面上时，铝硅会与
金属锂发生合金化反应生成锂‑
铝合金和锂‑硅合金，生成的亲锂合金将有助于金属锂在LLZTO表面的浸润，从而改善固态电解质LLZTO与锂金属之间的界面问题，使界面阻抗大大降低，并有效地抑制锂枝晶的生成，提高
固态电池的电流密度、面容量及循环寿命。
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“覆盖铝硅层的固态电解质及其制备方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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