本公开一般地涉及显示系统，更具体地说，涉及增强现实显示系统及其制造方法。一种制造显示设备的方法包括提供包括
锂(Li)基氧化物的基板以及形成暴露基板的区域的蚀刻掩模图案。该方法另外包括使用包含CHF3的气体混合物对基板的暴露区域进行等离子体蚀刻以形成衍射光学元件，其中所述衍射光学元件包括被配置为衍射入射在其上的可见光的Li基氧化物特征。
声明：
“制造具有图案化基于锂的过渡金属氧化物的显示设备的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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