本发明公开了一种光纤陀螺用铌酸
锂光波导掩膜及其制备方法和应用，该方法包括以下步骤：在铌酸锂基片上制作二氧化硅薄膜后，然后在二氧化硅薄膜表面涂布负性光刻胶，再进行光刻，形成光刻胶图案；将形成光刻胶图案的铌酸锂基片进行紫外老化、热老化，再对热老化后的铌酸锂基片进行清洗、刻蚀，最后去除光刻胶，制得光纤陀螺用铌酸锂光波导掩膜。本发明降低了二氧化硅掩膜边缘的粗糙度，减少了波导窗口处点状缺陷的数量，在不增加额外设备的前提下，提升了二氧化硅掩膜质量，降低了质子交换铌酸锂光波导的散射损耗，其散射损耗为0.04‑0.07dB/cm，达到了降低器件插入损耗、降低残余强度调制、提升高低温稳定性的目的。
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“光纤陀螺用铌酸锂光波导掩膜及其制备方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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