本发明提供了一种双面覆超薄
锂层复合带及其制备方法。双面覆超薄锂层复合带具有：基材，所述基材为单层或多层的带材或薄膜类材料；和附着在基材两面的超薄锂层，其中一面的超薄锂层为通过物理气相沉积(PVD)的方法沉积而成，另一面的超薄锂层为通过压力复合而成，超薄锂层的厚度各自在1‑20μm范围内。其制备方法为：对基材进行烘干处理；采用物理气相沉积(PVD)的方法对基材的一个表面沉积超薄
金属锂层；待基材冷却后，使用压力复合方法对基材的另一个表面复合超薄金属锂层。本发明提供的方法解决了双面覆超薄锂层复合带的生产问题，使得生产20μm以下超薄锂层的双面覆锂复合带成为可能。
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“双面覆超薄锂层复合带及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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