本发明公开了一种低温低压制备氮化硼涂层的方法，用于解决现有技术中，在采用化学气相沉积方法时，所需制备温度较高的问题。以三氯化硼（BCl3）和氨气（NH3）为主要原料，在低温条件下进行化学气相沉积，再将所得样品进行高温热处理，经傅里叶红外和X射线衍射检测，制备出了渗透能力更强、厚度均匀可控、结晶度较高的氮化硼涂层。此方法可用于
复合材料氮化硼界面的制备和样品表面涂层的制备，此方法将氮化硼化学气相沉积的沉积温度由1300~1800℃，降到了300~800℃。该方法主要包括：低温化学气相沉积和高温热处理。
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来源：北方有色网
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