本发明是一种压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴及其制造方法，喷嘴包括喷嘴主体，所述喷嘴主体顶部设置有喷嘴细缝，所述喷嘴主体底侧内部设置有一个空腔状类梯形槽；所述喷嘴主体采用材料包括氮化硼、或氮化硼和
碳化硅复合材料。制作方法包括步骤：加工喷嘴胚体，将氮化硼或氮化硼和碳化硅复合材料的块状坯料制做成具有喷嘴主体和类梯形槽的喷嘴胚体；喷嘴宽缝加工，在喷嘴胚体底侧内部沿长度方向中心位置进行喷嘴宽缝的机械加工；喷嘴细缝加工，在喷嘴胚体顶部外侧沿长度方向中心位置进行多条喷嘴细缝的机械加工，得到要求尺寸和形状的喷嘴。该申请使其喷嘴耐磨损，生产简单方便、加工设备不易损坏，实现非晶纳米晶薄带多条直喷工艺。
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“压力制带生产非晶纳米晶合金直喷薄带的喷嘴及制作方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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