本发明公开了一种
石墨烯/聚吡咯甲烯三阶非线性光学
复合材料的制备方法，属于非线性光学材料的制备领域。该制备方法包括以下步骤：将二氯乙酰氯改性石墨烯和3‑酰基吡咯在酸性条件下混合后，再加入4‑烷氧基苯甲醛，反应得到石墨烯/聚吡咯甲烷复合材料；再对制备的石墨烯/聚吡咯甲烷复合材料进行醌化处理，制得所述石墨烯/聚吡咯甲烯三阶非线性光学复合材料。本发明制备的石墨烯/聚吡咯甲烯三阶非线性光学复合材料不仅能够均匀地分散在二氯甲烷、氯仿、甲苯等低沸点溶剂中，成膜性优良，而且具有较窄的光学带隙和较大的三阶非线性光学极化率，在光调制器、变频器和全光开关等领域具有广阔的应用前景。
声明：
“石墨烯/聚吡咯甲烯三阶非线性光学复合材料的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1127
编辑：管理员
来源：北方有色网
咨询细节
