本发明属
功能材料制备技术领域，公开了一种钯离子印迹复合膜的制备方法及其应用。特指以聚二甲基硅氧烷制备基底膜，以钯离子为模板、8‑氨基喹啉和4‑乙烯基吡啶为配体、甲基丙烯酸羟乙酯为功能单体、乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂、偶氮二异丁腈为引发剂，结合牺牲模板法、离子印迹聚合技术，制备钯离子印迹复合膜。选择性吸附实验用来研究所制备的钯离子印迹复合膜的选择性吸附能力；选择性渗透实验用来研究所制备的钯离子印迹复合膜对目标物(钯离子)和非目标物(
钴离子、
铜离子、镉离子和
镍离子)的选择性渗透能力。结果表明利用本发明制备的钯离子印迹复合膜对钯离子具有较高的特异性识别能力和吸附分离能力。
声明：
“用于选择性分离钯离子的离子印迹复合膜的制备方法及应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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