本发明涉及的是一种氧缺陷型三氧化钨纳米片吸附剂及其制备方法。所述的氧缺陷型三氧化钨纳米片吸附剂由WO
3量子点在还原性气氛—氩气和氢气的混合气下煅烧而成。因为有还原性气体H
2的存在，从WO
3的晶格中夺取晶格氧，形成了富含氧缺陷的WO
3纳米片。吸附性能实验表明相对于传统的三氧化钨具有较高的吸附性能，在
污水处理方面具有良好的应用前景和经济效益，可作为一种环境
功能材料应用于环境治理领域。
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“氧缺陷型三氧化钨纳米片吸附剂及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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