一种光敏聚酰亚胺及其制备方法，属于感光耐热 高分子
功能材料。所述PSPI的主要成份的重复结构单元结构 式为：(见图)其中，聚合度n＝1－200； Ar1为芳香酮化合物； Ar2为苯环或萘环；R为邻位上含 烷基、烷氧基或甲硫基的苯环；R′为α、β不饱和酮基或取 代α、β不饱和酮基。以苯环邻位上含烷基、烷氧基或甲硫基 的光敏性二胺和含丙烯酰基的光敏性二胺为原料，将四羧酸二 酐有机溶液缓慢滴入光敏性二胺混合溶液进行聚合，再通过化 学亚胺化得到所述PSPI。该类聚合物是一种结构型与自增感型 结合的PSPI，分子结构中含有两种能够发生光交联反应的光敏 活性基团，具有更高的光敏性和分辨率，优异的热稳定性和溶 解性，光刻成形后膜的收缩率极小，在光刻工艺中有着广泛的 应用前景。
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来源：北方有色网
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