本文提供了板(1)，其包括将要使用具有波长(λR3)的单色光子辐射(R3)沉积到靶材表面(51)上的
功能材料(2)。所述板包括基底(10)，所述基底(10)具有被引导朝向靶材表面的第一表面(11)和接收单色光子辐射的第二表面(12)。第一表面(11)被图案化为具有一个或多个凹陷区域(111)，所述凹陷区域(111)具有介电涂层(4)并且填充有所述功能材料。介电涂层(4)包括一系列折射率交替的介电涂层子层(41,42,43)。与对于以45度角入射到介电涂层(4)的所述单色辐射(R3)的反射率相比，所述介电涂层(4)对于垂直于介电涂层(4)入射的所述单色辐射(R3)具有相对高的反射率。从而减轻了剪切力，而不需要高的对准精度。本申请还提供了包括该板的沉积装置和涉及该板的方法。
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“功能材料至靶材表面上的可控沉积” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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