本发明公开了一种
钕铁硼颗粒连续复合镀膜装置及对钕铁硼晶界深度调控的方法，涉及烧结钕铁硼制造领域。该装置包括进料系统、镀膜系统、出料系统、直流偏压电源、冷却系统和抽真空系统。镀膜室内部包括反溅清洗区和溅射镀膜区。颗粒通过布料斗均匀布置在电磁振动布料工作台上进行反溅清洗，之后运动到磁控溅射镀膜工作台上进行多靶材连续复合磁控溅射镀膜。出料室内的集料斗收集颗粒并导入旋转冷却滚筒进行冷却，调整布料斗尺寸以调整颗粒粉料厚度，调整电磁振动角以调整粉料行进速度，调整溅射电流来调整靶材的沉降速率，进而控制颗粒表面的膜层厚度。该方法可对烧结钕铁硼进行深度高效的晶界调控，改善了磁体性能、耐腐蚀性和机械特性。
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“钕铁硼颗粒连续复合镀膜装置及对钕铁硼晶界深度调控的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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