本实用新型涉及一种两段蒸馏的真空炉，属于真空冶金设备技术领域。该真空炉包括炉体、坩埚Ⅰ、坩埚Ⅱ、温控加热构件Ⅰ、温控加热构件Ⅱ、冷凝室、导气管、坩埚支架、支撑板Ⅰ、支撑板Ⅱ，热电偶Ⅰ、热电偶Ⅱ、热电偶Ⅲ，坩埚支架固定设置在炉体底部，坩埚Ⅰ设置在坩埚支架上，支撑板Ⅰ固定设置在炉体内壁，支撑板Ⅱ固定设置在炉体内壁，冷凝室固定设置在支撑板Ⅰ上端、坩埚Ⅱ设置在支撑板Ⅰ下端且固定设置在支撑板Ⅱ上端，冷凝室与坩埚Ⅱ连通，坩埚Ⅰ和坩埚Ⅱ通过导气管连通，温控加热构件Ⅰ与坩埚Ⅰ连接，温控加热构件Ⅱ与坩埚Ⅱ连接，热电偶Ⅰ设置在坩埚Ⅰ内，热电偶Ⅱ设置在坩埚Ⅱ内、热电偶Ⅲ设置在导气管内。
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来源：北方有色网
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