本发明涉及一种陶瓷材料技术领域，具体是一种氧化镝氧化镧作为添加剂无压烧结生产高性能氮化硅(Si3N4)陶瓷的方法。其组分及质量百分比含量为：氧化镝3％～7％，氧化镧5％～8％，氮化硅85％～92％。目的在于克服现有技术的不足，提供一种氧化镝氧化镧作为添加剂无压烧结生产高性能氮化硅陶瓷的方法，可广泛用于化工、机械、冶金、航空航天等领域的零部件制备。
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“掺杂氧化镧氧化镝的氮化硅制备工艺” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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