本申请提供一种钼合金管靶材及其制备方法和用途，属于
粉末冶金技术领域。该靶材以质量百分比计，包括Ni：10～30％，Ti：5～25％，W：1～20％，Re：0.5～5％，M：0‑15％，M为Cr、Zr、Ta、Nb中的至少一种，其中M用于替代部分Ti，余量为Mo和不可避免的杂质，Mo在钼合金管靶材中的质量百分比含量不低于50％，经冷等静压成型、包套、热等静压、挤压成型、退火等工序制备而成。本申请提供的靶材塑韧性好，变形能力较好，晶粒细小均匀。用本申请制备的靶材溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀，可通过溅射方式附着在电子部件用层叠配线膜的主导电层上形成金属覆盖层，用于平面显示器、薄膜太阳能和半导体装置等。
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“钼合金管靶材及其制备方法和用途” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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来源：北方有色网
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