本发明公开了一种高致密度钼铌合金靶材及其制备工艺，首先按重量百分比计量称取以下组分：铌粉5%~15%，氢化锆0.1%~0.8%，余量为钼粉，研磨、混匀后采用冷等静压压制成型，再进行真空烧结，或者在氢气气氛中预烧结后再进行真空烧结，最后机加工，即得。本发明利用氢化锆的活化作用，采用普通的
粉末冶金工艺直接制备高致密度的钼铌合金溅射靶材，工艺简单，成本低；同时避免了气孔造成的微粒飞溅，保证了镀膜质量；克服了熔炼铸造工艺组织粗大、成分不均，热压、热等静压工艺的渗碳、成本高，锻造或轧制加工流程长、成品率低的缺点。
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来源：北方有色网
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