权利要求书： 1.一种二氧化硅研磨搅拌装置，包括研磨箱(1)，其特征在于：所述研磨箱(1)的底部中心处开设有出料口(6)，所述研磨箱(1)的顶部一侧开设有进料口(3)，所述研磨箱(1)的顶部内壁四周固定有卡座(11)，所述卡座(11)上卡接固定有定位板(12)，所述定位板(12)固定有过滤箱(10)的顶部四周，所述研磨箱(1)的顶部中心处安装有减速电机(2)，所述减速电机(2)的输出端上固定有转轴(13)，所述转轴(13)上固定有研磨叶(15)，所述过滤箱(10)的内部分布有研磨球(14)，所述研磨箱(1)对应两侧内壁固定有振打器(17)，所述过滤箱(10)的底部两侧固定有与振打器(17)配合使用的振打片(16)，所述研磨箱(1)的外壁一侧安装有控制板(5)，所述控制板(5)电性连接减速电机(2)和振打器(17)。
2.根据权利要求1所述的一种二氧化硅研磨搅拌装置，其特征在于：所述研磨球(14)上分布有若干个研磨凸起。
3.根据权利要求1所述的一种二氧化硅研磨搅拌装置，其特征在于：所述研磨箱(1)固定在机架(8)上，所述机架(8)的底部四个拐角位置处安装有缓冲支脚(9)。
4.根据权利要求3所述的一种二氧化硅研磨搅拌装置，其特征在于：所述缓冲支脚(9)包括伸缩槽(18)、支撑弹簧(19)、伸缩杆(20)、滑块(21)和底脚(22)，所述伸缩槽(18)开设在机架(8)的底部四个拐角位置处，所述伸缩槽(18)的内部滑动有滑块(21)，所述滑块(21)的顶端通过支撑弹簧(19)固定在伸缩槽(18)的顶部，所述滑块(21)的底部安装有穿过伸缩槽(18)的伸缩杆(20)，所述伸缩杆(20)的底部安装有底脚(22)。
5.根据权利要求1所述的一种二氧化硅研磨搅拌装置，其特征在于：所述出料口(6)上安装有出料阀(7)，所述进料口(3)上旋接固定有端盖(4)。
说明书： 一种二氧化硅研磨搅拌装置技术领域[0001] 本实用新型涉及二氧化硅加工技术领域，具体为一种二氧化硅研磨搅拌装置。背景技术[0002] 硅原子和氧原子长程有序排列形成晶态二氧化硅，短程有序或长程无序排列形成非晶态二氧化硅。二氧化硅晶体中，硅原子位于正四面体的中心，四个氧原子位于正四面体
的四个顶角上，许多个这样的四面体又通过顶角的氧原子相连，每个氧原子为两个四面体
共有，即每个氧原子与两个硅原子相结合。二氧化硅的最简式是SiO2，但SiO2不代表一个简
单分子(仅表示二氧化硅晶体中硅和氧的原子个数之比)。纯净的天然二氧化硅晶体，是一
种坚硬、脆性、难溶的无色透明的固体，常用于制造光学仪器等。
[0003] 黑硅就是把硅片弄成黑色，硅片还是原来的硅片，在表面用涂料做一层涂层。二氧化硅涂层需要通过二氧化硅粉制备，二氧化硅粉在生产过程中需要对二氧化硅粉进行研
磨。现有技术中的二氧化硅研磨装置，易造成研磨后的二氧化硅堵塞滤网孔，影响研磨效
率。因此，设计一种二氧化硅研磨搅拌装置是很有必要的。
实用新型内容
[0004] 针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本实用新型提供一种二氧化硅研磨搅拌装置，该装置结构新颖，构思巧妙，通过设置的振打器击打振打片，造成过滤箱振动，便于研
磨后的二氧化硅快速通过过滤箱，防止二氧化硅造成过滤箱滤孔堵塞，影响二氧化硅的研
磨效率。
[0005] 为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种二氧化硅研磨搅拌装置，包括研磨箱，所述研磨箱的底部中心处开设有出料口，所述研磨箱的顶部一侧开设有进料口，
所述研磨箱的顶部内壁四周固定有卡座，所述卡座上卡接固定有定位板，所述定位板固定
有过滤箱的顶部四周，所述研磨箱的顶部中心处安装有减速电机，所述减速电机的输出端
上固定有转轴，所述转轴上固定有研磨叶，所述过滤箱的内部分布有研磨球，所述研磨箱对
应两侧内壁固定有振打器，所述过滤箱的底部两侧固定有与振打器配合使用的振打片，所
述研磨箱的外壁一侧安装有控制板，所述控制板电性连接减速电机和振打器。
[0006] 优选的，所述研磨球上分布有若干个研磨凸起。[0007] 优选的，所述研磨箱固定在机架上，所述机架的底部四个拐角位置处安装有缓冲支脚。
[0008] 优选的，所述缓冲支脚包括伸缩槽、支撑弹簧、伸缩杆、滑块和底脚，所述伸缩槽开设在机架的底部四个拐角位置处，所述伸缩槽的内部滑动有滑块，所述滑块的顶端通过支
撑弹簧固定在伸缩槽的顶部，所述滑块的底部安装有穿过伸缩槽的伸缩杆，所述伸缩杆的
底部安装有底脚。
[0009] 优选的，所述出料口上安装有出料阀，所述进料口上旋接固定有端盖。[0010] 本实用新型的有益效果为：[0011] 1、将需要研磨的二氧化硅通过进料口导入到过滤箱的内部，通过设置的减速电机带动转轴旋转，从而带动研磨叶旋转，在研磨叶和研磨球的相互作用下，对二氧化硅进行研
磨工作，研磨的二氧化硅细度符合过滤箱的滤孔直径时，会自动通过过滤箱从出料口排出，
通过设置的振打器击打振打片，造成过滤箱振动，便于研磨后的二氧化硅快速通过过滤箱，
防止二氧化硅造成过滤箱滤孔堵塞，影响二氧化硅的研磨效率；
[0012] 2、研磨箱在工作的过程中会发生振动，通过设置的滑块在伸缩槽的内部运动，造成支撑弹簧受力压缩，在支撑弹簧的反向作用力下，使其具有良好的减震功能。
附图说明[0013] 附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
[0014] 图1是本实用新型整体平面结构示意图；[0015] 图2是本实用新型研磨箱剖视平面结构示意图；[0016] 图3是本实用新型缓冲支脚平面结构示意图；[0017] 图中标号：1、研磨箱；2、减速电机；3、进料口；4、端盖；5、控制板；6、出料口；7、出料阀；8、机架；9、缓冲支脚；10、过滤箱；11、卡座；12、定位板；13、转轴；14、研磨球；15、研磨叶；
16、振打片；17、振打器；18、伸缩槽；19、支撑弹簧；20、伸缩杆；21、滑块；22、底脚。
具体实施方式[0018] 下面结合附图1?3对本实用新型的具体实施方式做进一步详细说明。[0019] 由图1?3给出，本实用新型提供如下技术方案：一种二氧化硅研磨搅拌装置，包括研磨箱1，研磨箱1的底部中心处开设有出料口6，研磨箱1的顶部一侧开设有进料口3，研磨
箱1的顶部内壁四周固定有卡座11，卡座11上卡接固定有定位板12，定位板12固定有过滤箱
10的顶部四周，不仅保证过滤箱10安装的稳定性，而且安装和拆卸方便，研磨箱1的顶部中
心处安装有减速电机2，减速电机2的输出端上固定有转轴13，转轴13上固定有研磨叶15，过
滤箱10的内部分布有研磨球14，研磨箱1对应两侧内壁固定有振打器17，过滤箱10的底部两
侧固定有与振打器17配合使用的振打片16，研磨箱1的外壁一侧安装有控制板5，控制板5电
性连接减速电机2和振打器17，将需要研磨的二氧化硅通过进料口3导入到过滤箱10的内
部，通过设置的减速电机2带动转轴13旋转，从而带动研磨叶15旋转，在研磨叶15和研磨球
14的相互作用下，对二氧化硅进行研磨工作，研磨的二氧化硅细度符合过滤箱10的滤孔直
径时，会自动通过过滤箱10从出料口6排出，通过设置的振打器17击打振打片16，造成过滤
箱10振动，便于研磨后的二氧化硅快速通过过滤箱10，防止二氧化硅造成过滤箱10滤孔堵
塞，影响二氧化硅的研磨效率。
[0020] 研磨球14上分布有若干个研磨凸起，提升研磨效果。[0021] 研磨箱1固定在机架8上，机架8的底部四个拐角位置处安装有缓冲支脚9，便于对研磨箱1进行支撑。
[0022] 缓冲支脚9包括伸缩槽18、支撑弹簧19、伸缩杆20、滑块21和底脚22，伸缩槽18开设在机架8的底部四个拐角位置处，伸缩槽18的内部滑动有滑块21，滑块21的顶端通过支撑弹
簧19固定在伸缩槽18的顶部，滑块21的底部安装有穿过伸缩槽18的伸缩杆20，伸缩杆20的
底部安装有底脚22，研磨箱1在工作的过程中会发生振动，通过设置的滑块21在伸缩槽18的
内部运动，造成支撑弹簧19受力压缩，在支撑弹簧19的反向作用力下，使其具有良好的减震
功能。
[0023] 出料口6上安装有出料阀7，便于出料口6的打开与关闭，进料口3上旋接固定有端盖4，便于进料口3的打开与关闭。
[0024] 本实用新型使用时，将需要研磨的二氧化硅通过进料口3导入到过滤箱10的内部，通过设置的减速电机2带动转轴13旋转，从而带动研磨叶15旋转，在研磨叶15和研磨球14的
相互作用下，对二氧化硅进行研磨工作，研磨的二氧化硅细度符合过滤箱10的滤孔直径时，
会自动通过过滤箱10从出料口6排出，通过设置的振打器17击打振打片16，造成过滤箱10振
动，便于研磨后的二氧化硅快速通过过滤箱10，防止二氧化硅造成过滤箱10滤孔堵塞，影响
二氧化硅的研磨效率；
[0025] 研磨箱1在工作的过程中会发生振动，通过设置的滑块21在伸缩槽18的内部运动，造成支撑弹簧19受力压缩，在支撑弹簧19的反向作用力下，使其具有良好的减震功能。
[0026] 最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员
来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征
进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均
应包含在本实用新型的保护范围之内。
声明：
“二氧化硅研磨搅拌装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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编辑：北方有色网
来源：福建硅纳金新材料有限公司
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