Desktop Pro薄膜沉积-磁控溅射
如果实验室空间是您关心的问题，紧凑、高真空Desktop Pro溅射系统生产能力大，而占用的桌面空间不到36英寸(914mm)。Desktop Pro可以提供共聚焦溅射以及磁性和/或介电材料的沉积。
Desktop Pro以共焦结构支持一个或两个阴较为，在4英寸直径上提供高薄膜均匀性。其能够在不到30分钟的时间内抽气至高真空(10-6托范围)，这是需要快速转换的多用户环境中完美解决方案。
用途：
溅射 材料研究 产品质量控制和质量保证
半导体故障分析 纳米技术 化合物半导体
优势：
这一直流和射频溅射系统将提高您的研究生产力，提供一致、可重复的性能，同时，可大幅节约测试环境的空间。
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