高真空热蒸发镀膜设备是一种利用电阻加热或电子束加热使材料蒸发，并在高真空环境下沉积到基片表面形成薄膜的 物理气相沉积(PVD) 设备。该系统广泛应用于光学薄膜、电子器件、装饰镀膜等领域。
设备主要技术参数：
1、 极限真空≤6*10-5pa
2、 恢复设备工作真空≤6*10-4pa，小于40min(新设备充干燥氮气)
3、 蒸发舟配置手动磁耦合挡板
4、 设备配置样品托架一套，掩膜板一套
5、 18个束源炉最高温度为600℃，控温精度为±1℃
6、 设备总体漏率：关机停泵12小时后，真空度≤10pa
7、 蒸发源与衬底间距180mm±60mm
8、 手套箱的水氧含量小于1ppm
设备主要配置：
1、 真空腔体采用真空专用304#不锈钢制造，内径480mm，高495mm(可根据实际需要进行定制)
2、 钽蒸发舟组件6套，束源炉18套
3、 蒸发舟加热电源2台，束源炉加热电源6台，并配置手动转换机构
4、 配置CF150超高真空闸板阀二台，配置CF35超高真空角阀二支，配置放气阀二支，配置CF16充气阀二支，电阻规二支，电离规二支
5、 可升降可旋转样品沉积转台，基片架机构一套，旋转速度2～30转/分连续可调
6、 过渡室配置CF200闸板阀二台
7、 烘烤照明系统一套、衬底总挡板一套、CF100玻璃金属观察窗及挡板二套及CF63玻璃金属观察窗及挡板一套、金属陶瓷焊接电极若干、控制柜二套
8、 配置600L/S分子泵二台、配置2XZ-8机械泵二台、前级管路三套，配置￠32不锈钢金属波纹管管路
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